Para acceder a los documentos con el texto completo, por favor, siga el siguiente enlace: http://hdl.handle.net/2117/13159
Título: | Molecular ¿(2) gratings via electron-beam lithography |
---|---|
Autor/a: | Domínguez Juárez, Jorge Luis; Macovez, Roberto; Gonzalez, M.U.; Martorell Pena, Jordi |
Otros autores: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Física i Enginyeria Nuclear; Universitat Politècnica de Catalunya. DONLL - Dinàmica no Lineal, Òptica no Lineal i Làsers; Universitat Politècnica de Catalunya. GCM - Grup de Caracterització de Materials |
Abstract: | |
Materia(s): | -Àrees temàtiques de la UPC::Física::Electromagnetisme -Diffraction gratings -Lithography -Electrons -- Difracció |
Derechos: | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Tipo de documento: | Artículo - Versión publicada Artículo |
Compartir: |