Molecular hydrogen diffusion in nanostructured amorphous silicon thin films

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Título:	Molecular hydrogen diffusion in nanostructured amorphous silicon thin films
Autor/a:	Kail, Fatiha; Farjas Silva, Jordi; Roura Grabulosa, Pere
Abstract:	We study hydrogen stability and its evolution during thermal annealing in nanostructured amorphous silicon thin films. From the simultaneous measurement of heat and hydrogen desorption, we obtain the experimental evidence of molecular diffusion in these materials. In addition, we introduce a simple diffusion model which shows good agreement with the experimental data
Fecha de creación:	12-11-2013
Materia(s):	-Hidrogenació -Hydrogenation -Silici -Silicon -Materials nanoestructurals -Nanostructure materials -Thin films -Capes fines
Derechos:	Tots els drets reservats
Tipo de documento:	Artículo Artículo - Versión publicada
Editor:	American Physical Society
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Rath, Chandana; Farjas Silva, Jordi; Roura Grabulosa, Pere; Kail, Fatiha; Roca i Cabarrocas, Pere; Bertrán Serra, Enric

Kail, Fatiha; Farjas Silva, Jordi; Roura Grabulosa, Pere; Secouard, Christopher; Nos, Oriol; Bertomeu, Joan Prat; Alzina, F.; Roca i Cabarrocas, Pere

Farjas Silva, Jordi; Roura Grabulosa, Pere

Roura Grabulosa, Pere; Farjas Silva, Jordi; Rath, Chandana; Serra-Miralles, J.; Bertrán Serra, Enric; Roca i Cabarrocas, Pere

Farjas Silva, Jordi; Rath, Chandana; Pinyol i Agelet, Albert; Roura Grabulosa, Pere; Bertrán Serra, Enric

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