Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2117/26785
Títol: | Cosmetotextiles with gallic acid: skin reservoir effect |
---|---|
Autor/a: | Marti Gelabert, Meritxell; Alonso Merino, Cristina; Martínez Rodríguez, Vanessa; Lis Arias, Manuel José; de la Maza, Alfons; Parra Juez, José Luis; Coderch Negra, Luisa |
Altres autors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Química; Universitat Politècnica de Catalunya. POLQUITEX - Materials Polimérics i Química Téxtil |
Abstract: | |
Matèries: | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria química::Indústries químiques::Química tèxtil -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria tèxtil ::Teixits::Teixits mèdics -Cotton textiles -Gallic acid -Polyamide fibers -Fibres tèxtils -- Innovacions tecnològiques -Química tèxtil |
Drets: | Attribution 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/ |
Tipus de document: | Article - Versió publicada Article |
Publicat per: | HINDAWI |
Compartir: |