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Título: | Crystal growth characterization of polycrystalline silicon films obtained by hot-wire chemical vapour deposition |
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Autor/a: | Polo Trasancos, Ma. del Carmen; Peiró Martínez, Francisca; Cifre, J.; Bertomeu i Balagueró, Joan; Puigdollers i González, Joaquim; Andreu i Batallé, Jordi |
Otros autores: | Universitat de Barcelona |
Abstract: | |
Materia(s): | -Silici -Deposició química en fase vapor -Pel·lícules fines -Creixement cristal·lí -Silicon -Chemical vapor deposition -Thin films -Crystal growth |
Derechos: | cc-by (c) Polo Trasancos, Ma. del Carmen et al., 1995
http://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es |
Tipo de documento: | Artículo Artículo - Versión publicada |
Editor: | Institute of Physics (IOP) |
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