Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2445/61851

Degradation of thin tungsten filaments at high temperature in HWCVD
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Bertomeu i Balagueró, Joan
Universitat de Barcelona
-Tungstè
-Deposició química en fase vapor
-Silici
-Catàlisi
-Pel·lícules fines
-Tungsten
-Chemical vapor deposition
-Silicon
-Catalysis
-Thin films
(c) Elsevier B.V., 2015
Article
Article - Versió acceptada
Elsevier B.V.
         

Mostra el registre complet del document

Documents relacionats

Altres documents del mateix autor/a

Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Bertomeu i Balagueró, Joan
Frigeri, Paolo Antonio; Nos Aguilà, Oriol; Bengoechea, S.; Frevert, C.; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan
Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Bertomeu i Balagueró, Joan
Antony, Aldrin; Carreras Seguí, Paz; Keitzl, Thomas; Roldán, Rubén; Nos Aguilà, Oriol; Frigeri, Paolo Antonio; Asensi López, José Miguel; Bertomeu i Balagueró, Joan