To access the full text documents, please follow this link: http://hdl.handle.net/2117/7733
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica |
---|---|
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Disseny i Programació de Sistemes Electrònics |
dc.contributor | Universitat Politècnica de Catalunya. QINE - Disseny de Baix Consum, Test, Verificació i Circuits Integrats de Seguretat |
dc.contributor.author | Rodríguez Montañés, Rosa |
dc.contributor.author | Arumi Delgado, Daniel |
dc.contributor.author | Figueras Pàmies, Joan |
dc.contributor.author | Eichenberger, Stefan |
dc.contributor.author | Hora, Camelia |
dc.contributor.author | Kruseman, Bram |
dc.contributor.author | Lousberg, M. |
dc.contributor.author | Majhi, A.K. |
dc.date | 2007-05-31 |
dc.identifier.citation | Rodríguez, R. [et al.]. Diagnosis of full open defects in interconnecting lines. A: IEEE VLSI Test Symposium. "25th IEEE VLSI Test Symposium". Berkeley: IEEE, 2007, p. 1-6. |
dc.identifier.citation | 0-7695-2812-0 |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/2117/7733 |
dc.language.iso | eng |
dc.publisher | IEEE |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
dc.subject | Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria electrònica::Circuits electrònics |
dc.subject | Metal oxide semiconductors, Complementary |
dc.subject | Integrated circuits |
dc.subject | Metall-òxid-semiconductors complementaris |
dc.subject | Circuits integrats |
dc.title | Diagnosis of full open defects in interconnecting lines |
dc.type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion |
dc.type | info:eu-repo/semantics/conferenceObject |
dc.description.abstract | |
dc.description.abstract | |
dc.description.abstract |