dc.contributor
Universitat Politècnica de Catalunya. Departament de Ciència i Enginyeria de Materials
dc.contributor
Villalobos, Crisanto José
dc.contributor.author
Trias Marzá, Lucas
dc.identifier
https://hdl.handle.net/2117/428626
dc.identifier
PRISMA-193508
dc.description.abstract
La creciente demanda de materiales de gran desempeño tribológico y resistencia a la corrosión para distintas aplicaciones industriales, médicas, energéticas etc., ha generado un gran interés en tratamientos superficiales económicos y efectivos, como pueden ser el PVD o CVD. Dentro de estas propuestas, se encuentran las películas formadas por DLC “Diamond-like Carbon”, las cuales tienen un comportamiento excelente a nivel superficial. Sin embargo, estas películas no siempre presentan un buen anclaje en los substratos metálicos usados típicamente, es por ello que se usa una capa de anclaje que permite el acople entre la película de DLC y el substrato metálico. Esta mejora en el tratamiento DLC tiene el potencial de mejorar el rendimiento y fiabilidad de prótesis, componentes mecánicos y infinidad de otros productos, reduciendo costes y impacto ambiental. En la presente investigación evaluaremos el efecto del potencial de “bias” en el crecimiento de estas película de anclaje de Carburo de Cromo. Con esta evaluación se pretende encontrar un potencial de bias idoneo para la adherencia de la película DLC al substrato. La caracterización se realizará a través de las técnicas de microscopía electrónica de barrido por emisión de campo (FESEM) y microscopía electrónica de transmisión de alta resolución (HRTEM); tomando imágenes tanto en campo claro, campo oscuro y difracción de electrones de área selecta.
dc.format
application/pdf
dc.publisher
Universitat Politècnica de Catalunya
dc.subject
Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria dels materials
dc.subject
Corrosion resistant materials
dc.subject
Transmission electron microscopy
dc.subject
Scanning electron microscopy
dc.subject
Materials resistents a la corrosió
dc.subject
Microscòpia electrònica de transmissió
dc.subject
Microscòpia electrònica d'escombratge
dc.title
Evaluación del efecto del potencial de bias en el crecimiento de una película de enlace de CrC obtenida por "magnetron sputtering"