Per accedir als documents amb el text complet, si us plau, seguiu el següent enllaç: http://hdl.handle.net/2117/19501
Títol: | Influence of hydrogen on the optical absorption response of GaAs(Ti) films deposited by R.F. sputtering |
---|---|
Autor/a: | Boronat Moreiro, Alfredo; Silvestre Bergés, Santiago; Castañer Muñoz, Luis María |
Altres autors: | Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica; Universitat Politècnica de Catalunya. MNT - Grup de Recerca en Micro i Nanotecnologies |
Abstract: | |
Abstract: | |
Matèries: | -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria de la telecomunicació::Telecomunicació òptica::Fotònica -Àrees temàtiques de la UPC::Enginyeria de la telecomunicació::Telecomunicació òptica -Temperature measurements -Photonics -GaAs(Ti) compound -hydrogen -intermediate band -sputtering -Termometria -Fotònica |
Drets: | Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Spain
http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/es/ |
Tipus de document: | Article - Versió publicada Objecte de conferència |
Publicat per: | Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) |
Compartir: |